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氰化镀铜工艺

一、特点

1、铜镀层结晶细致,光亮及均匀。

2、电流密度范围宽阔,覆盖能力极佳。

3、有机或无机杂质容忍度高,易于控制。

4、适用于钢铁、铜、青铜等不同基体的工件,尤为适合于锌合金压铸件。

5、镀液可用氰化钾或氰化钠配制,效果同样理想。

二、镀液组成

        

原料

标准(一般开缸份量)

氰化铜(CuCN

75/

氰化钾 (KCN)

127/

氢氧化钾     (KOH)

3/

碱铜CH-5号诺切液

30-50毫升/

碱铜CH-3号添加剂

5-7毫升/

碱铜CH-4号添加剂

5毫升/

        

原料

标准(一般开缸份量)

氰化铜(CuCN

53-71/

氰化钠 (NaCN)

73-98/

氢氧化钠 (NaOH)

1-3/

碱铜CH-5号诺切液

30-50毫升/

碱铜CH-3号添加剂

5-7毫升/

碱铜CH-4号添加剂

5毫升/

 

三、操作条件

操作参数

标准参数

金属铜含量Cu2+

37-50/

游离氰化钠Free CN

15-20/

氢氧化钠

1-3/

  

45-60

电流密度

0.5-5安培/平方分米

搅拌方法

空气或阴极摇摆

  

无氧电解铜

阳极袋

必需要

  

连续过滤(4-8循环/小时)